1. की मांग का प्रयोग करेंटाइटेनियम एनोड
उपयोगकर्ताओं की वास्तविक जरूरतों के आधार पर, जब कॉपर चढ़ाना प्रक्रिया को फॉस्फोर कॉपर बॉल से टाइटेनियम एनोड में स्विच किया जाता है, तो प्राथमिक मांग इलेक्ट्रोप्लेटिंग एकरूपता को प्रभावी ढंग से और स्थिर रूप से सुधारना है, जिससे गुणवत्ता में सुधार होगा; दूसरे, यह आवश्यक है कि टाइटेनियम एनोड की गुणवत्ता स्थिर हो और इस अवधि के दौरान अपेक्षित सेवा जीवन और स्थिर योजक खपत स्तर तक पहुंच सके ताकि यह सुनिश्चित हो सके कि परिचालन लागत नियंत्रणीय है। इसलिए, संक्षेप में, मुख्य आवश्यकताएं इस प्रकार हैं: उत्कृष्ट इलेक्ट्रोप्लेटिंग एकरूपता, स्थिर सेवा जीवन और नियंत्रणीय योज्य खपत स्तर।
एनोड निर्माताओं के लिए, उत्पाद डिजाइन के लिए ग्राहकों की जरूरतों को आंतरिक आवश्यकताओं में कैसे अनुवादित किया जाए, यह एनोड निर्माताओं के अध्ययन और संबंधित सहायता प्रदान करने के लिए सबसे महत्वपूर्ण बिंदु है। टाइटेनियम सब्सट्रेट और कोटिंग टाइटेनियम एनोड संरचना का अधिकांश हिस्सा बनाते हैं। विशिष्ट आवश्यकताओं के अनुसार, इलेक्ट्रोप्लेटिंग एकरूपता की आवश्यकताएं मुख्य रूप से टाइटेनियम सब्सट्रेट के यांत्रिक डिजाइन द्वारा निर्धारित की जाती हैं, जबकि अन्य दो आवश्यकताएं कोटिंग डिजाइन से निकटता से संबंधित हैं।

2. टाइटेनियम एनोड डिस्चार्ज एकरूपता का डिजाइन
टाइटेनियम एनोड के मुख्य यांत्रिक डिजाइन को उपकरण के साथ मिलान करने की आवश्यकता होती है, और मुख्य कार्य उपकरण आपूर्तिकर्ता द्वारा पूरा किया जाता है। एनोड निर्माता को मुख्य रूप से निम्नलिखित पहलुओं से टाइटेनियम एनोड डिस्चार्ज एकरूपता के डिजाइन को अनुकूलित करने के तरीके पर संबंधित सुझाव और समर्थन देना चाहिए।
मैं। प्रतिरोधकता की समस्या
टाइटेनियम एनोड डिस्चार्ज एकरूपता के डिजाइन में, संबंधित होने वाला पहला बिंदु टाइटेनियम सामग्री की प्रतिरोधकता है। शुद्ध टाइटेनियम की प्रतिरोधकता लगभग 0.47 μ Ω · m है, समान परिस्थितियों में शुद्ध तांबे के 30 गुना के करीब। फॉस्फोर कॉपर बॉल का उपयोग करते समय, एनोड करंट को टाइटेनियम बास्केट के ऊपरी हिस्से के माध्यम से पेश किया जाता है, और फिर पूरे एनोड के अंदर कॉपर बॉल के माध्यम से संचालित किया जाता है (संक्षेप में, यह माना जा सकता है कि करंट कॉपर के माध्यम से संचालित होता है)। इसलिए, ऊपरी हिस्से और निचले हिस्से के बीच चालकता का अंतर बहुत छोटा है, जिसे नजरअंदाज किया जा सकता है। जब टाइटेनियम एनोड का उपयोग किया जाता है, तो टाइटेनियम की चालकता अपेक्षाकृत खराब होती है, खासकर जब टाइटेनियम एनोड उच्च वर्तमान घनत्व पर काम कर रहा होता है, और करंट को एनोड के ऊपरी हिस्से से निचले हिस्से तक प्रेषित किया जाता है, टाइटेनियम का प्रतिरोध ही ऊपर से नीचे तक वोल्टेज में उल्लेखनीय कमी आएगी। इस तरह, टाइटेनियम एनोड के तल पर निर्वहन वर्तमान घनत्व टाइटेनियम एनोड के शीर्ष की तुलना में काफी कम होगा।
एनोड डिजाइन में, प्राथमिक विचार यह है कि टाइटेनियम सामग्री की लंबी दूरी की चालन के कारण वोल्टेज ड्रॉप को कैसे कम किया जाए। इसे मुख्य रूप से निम्नलिखित दो पहलुओं के माध्यम से अनुकूलित किया जा सकता है: ① प्रवाहकीय प्रतिरोधकता को कम करें, वर्तमान चालन के लिए व्यापक और मोटी टाइटेनियम सामग्री का उपयोग करें, या वर्तमान चालन में सहायता के लिए टाइटेनियम कॉपर मिश्रित सामग्री का उपयोग करें; ② वर्तमान चालन बिंदुओं को बिखेरें, और लंबी संचरण दूरी से बचने के लिए एनोड सतह पर कई वर्तमान चालन बिंदु सेट करें।
द्वितीय। एनोड सब्सट्रेट प्रकारों का लक्षित अनुकूलन
वर्तमान में, टाइटेनियम एनोड के डिजाइन में, मूल रूप से दो प्रकार के एनोड सब्सट्रेट होते हैं: एक टाइटेनियम प्लेट है, और दूसरा टाइटेनियम जाल है।
टाइटेनियम जाल पंचिंग और ड्राइंग द्वारा टाइटेनियम प्लेट से बना है, और इसका मुख्य लाभ दो पहलुओं में है: पहला, टाइटेनियम प्लेट की तुलना में, टाइटेनियम सामग्री की खपत को बचाया जा सकता है; दूसरा, क्योंकि टाइटेनियम जाल आमतौर पर दोनों तरफ लेपित होता है, भले ही यह उत्पाद के पीछे का सामना न करे, क्योंकि जाल सामग्री एक खोखली संरचना है, पीछे की कोटिंग भी निर्वहन में भाग ले सकती है, इसलिए प्रभावी निर्वहन क्षेत्र संपूर्ण जाल एनोड टाइटेनियम प्लेट की तुलना में बड़ा है, जो वास्तविक एनोड कार्य परिस्थितियों में वर्तमान घनत्व को कम कर सकता है। रेटिकुलेटेड एनोड की यांत्रिक शक्ति आमतौर पर खराब होती है, और इसकी प्रतिरोधकता प्लेट एनोड की तुलना में अधिक होती है। उपरोक्त समस्याओं को हल करने के लिए, एक उपयुक्त फ्रेम डिजाइन करके और सोल्डर जोड़ों की स्थिति को अनुकूलित करके टाइटेनियम जाल एनोड की सपाटता और निर्वहन एकरूपता में काफी सुधार किया जा सकता है।

प्लेट एनोड का उपयोग करने का सबसे बड़ा फायदा यह है कि प्लेट एनोड के सब्सट्रेट का पुन: उपयोग किया जा सकता है। एनोड कोटिंग विफल होने के बाद, अवशिष्ट कोटिंग को छीन लिया जा सकता है, सब्सट्रेट की सतह को अच्छी तरह से साफ किया जा सकता है, और फिर कोटिंग को फिर से लगाया जा सकता है। इस तरह, एनोड के भविष्य के आवेदन में दीर्घकालिक उपयोग लागत को कुछ हद तक बचाया जा सकता है (हालांकि एक बार का निवेश थोड़ा बड़ा होगा)। दूसरी ओर, प्लेट एनोड सब्सट्रेट की मोटाई आमतौर पर 2 मिमी और 3 मिमी होती है, जबकि मेष एनोड आमतौर पर 1 मिमी टाइटेनियम प्लेट (बीच में एक खोखला होता है) से ड्राइंग के लिए उपयुक्त होता है, इसलिए प्लेट एनोड की चालकता होती है मेष एनोड की तुलना में बेहतर। समतलता भी बेहतर होगी, और प्लेट एनोड की सापेक्ष यांत्रिक शक्ति मेष एनोड की तुलना में अधिक होती है। हालांकि, इसका मतलब यह नहीं है कि प्लेट एनोड की डिस्चार्ज एकरूपता मेश एनोड की तुलना में बेहतर है। इसके विपरीत, प्लेट एनोड का समग्र यांत्रिक डिजाइन मेष एनोड (एक फ्रेम के साथ) की तुलना में सरल होता है। हालांकि, प्लेट एनोड करंट एक्सेस पॉइंट्स के वितरण के अनुकूलन के लिए अभी भी जगह है अगर इसे उच्च इलेक्ट्रोप्लेटिंग एकरूपता आवश्यकताओं के अनुकूल होना आवश्यक है।







